高端氮化硅粉体烧结炉具有H2安全保护、防窜气技术 、多段温度曲线设定，多种气体流量自动精准控制（无需人工调节）、脉冲式充气、气体循环控温、发热体衰减检测、发热体漏电监测、全面故障自诊断等功能。主要用于高端氮化硅粉料的生产。

非接触式高温测量设计、具有真空系统过滤保护与独特的脱蜡系统及尾气处理设计。应用氮化硅等非金属陶瓷材料进行脱成型剂、气压烧结、产品致密化等。

陶瓷基片炉具有高稳定性、高人性化、低维护的特点，采用非接触式高温测量、真空系统过滤保护、独特尾气处理设计。主要用于氮化硅/氮化铝流延基片等先进材料进行真空，脱气、加压致密化等，广泛应用于航天航空、电子电器半导体等领域。

碳化硅陶瓷制品重结晶烧结，同时还可兼容无压烧结以及反应烧结，为您的生产提供更多可能，满足不同工艺需求。

超高温、超高压，拥有完全自主产权，解决国外“卡脖子”关键技术问题。设备主要应用于航空航天、国防军工、轨道交通等难熔金属、高强合金、陶瓷系列等材料的研制和生产。

加压脱蜡烧结一体炉结合了正负压脱脂、气氛烧结、真空烧结和加压烧结等工艺，用于硬质合金、金属陶瓷等制品的烧结处理，可在真空、Ar/H2/CH4气体环境、高至1600℃的温度和高至100bar的压力下工作。均匀的热场、先进的气场分布、精准控制的温度曲线保证产品的高品质、高合格率。高达98%的脱蜡收集率（石蜡），保证石蜡充分回收，而且大幅减少对真空泵油的污染，有效延长真空泵维护周期。

真空脱脂烧结炉主要用于钨合金、钢结合金等制品的脱脂和烧结。可实现正负压脱脂、气氛烧结、真空烧结等工艺。可在真空、Ar/H2 /CH4气体环境、高至1600℃的温度下工作。炉壳采用双层水冷设计，适用于石蜡、橡胶和PEG等粘结剂的脱脂处理，高达98%的脱蜡收集率（石蜡），保证石蜡充分回收，而且大幅减少对真空泵油的污染，有效延长真空泵维护周期。

金属陶瓷烧结炉具有高安全性、高独特性及高便携性。多样的工艺进气系统组合方式、稳定的温场特殊设计、独特的加压系统与急速冷却系统设计。主要用于金属陶瓷材料的烧结。

占地面积小、外观精巧、温度范围大、工艺气体组合方式灵活，功能完善。主要适用于科研院校或具有研发需求单位，进行硬质合金、高比重合金、金属陶瓷、非金陶瓷、氮化硅、碳化硅等高端新材料的研发使用。