陶瓷基片炉具有高稳定性、高人性化、低维护的特点，采用非接触式高温测量、真空系统过滤保护、独特尾气处理设计。主要用于氮化硅/氮化铝流延基片等先进材料进行真空，脱气、加压致密化等，广泛应用于航天航空、电子电器半导体等领域。