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湖南省株洲市天元区泰山西路2008号联合厂房八

氮化硅气氛加压烧结炉
产品介绍
氮化硅气氛加压烧结炉采用非接触式高温测量设计、具有真空系统过滤保护与独特的脱蜡系统及尾气处理设计。应用氮化硅等非金属陶瓷材料进行脱成型剂、气压烧结、产品致密化等。


产品参数

装料空间(W*H*L) 500*500*1300、500*500*1500、500*500*1800
设计标准 JB4732-1995(2005年确认版)
设计寿命 20年/6000炉次
最高温度 2000℃
最高压力 10MPa
真空泄漏率 ≤5×10-3 mbarl/s
高压升压速率 ≤5bar/min
升温速率
(满载、<1000℃)
≤10℃/min
升温速率
(满载、≥1000℃)
≤6℃/min
温度均匀性 ≤±5℃
测温方式 WRe5-26双芯热电偶
加热区数 三区/四区
具备功能 正压脱蜡、负压脱蜡、真空烧结、压力烧结、带电降温、加压快冷、真空冷却
工艺气体种类 N2  Ar
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